沃特塞恩旗下的和瑞微波事业部专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及MPCVD设备生产、具有多项自主知识产权……，我司生产的这款型号为HMPS-9750S微波等离子体CVD设备具有以下优势特点：
◆ 高功率大面积金刚石薄膜沉积设备。
◆ 微波反应腔采用新一代容积大型环形工作腔，功率密度大，承载超大容量微波功率。
◆ TM02双模放电，放电区域直径≥240mm，均匀沉积区直径≥200mm。
◆ 915MHz/75kW高功率高稳定性固态微波功率源或开关型微波功率源，微波功率输出稳定性高。
◆ 等离子体远离石英窗，石英窗风冷散热。
◆ 双级旋片真空泵或分子泵或罗茨泵（选配）。
◆ 进口高精度MFC，高可靠稳定压力控制系统。
◆ 多参数实时监测、采集与记录，PLC屏幕控制，多重联锁保护与报警。
| （1） | 型号 | HMPS-9750S |
| （2） | 电源 | AC380±10% V 三相五线制 50Hz，额定输入＜25KVA |
| （3） | 微波输出功率 | 75kW 连续可调 |
| （4） | 功率稳定度 | ≤±1%（@满功率） |
| （5） | 纹波 | ≤1% |
| （6） | 微波频率 | 915MHz±50MHz |
| （7） | 测温系统 | 红外300~1400℃，或者双色475~1475℃， |
| （8） | 极限真空度 | 6×10-6torr |
| （9） | 腔体内工作压力 | 8torr~220torr |
| （10） | 自动气压控制 | 0.1torr |
| （11） | 等离子放电区域 | Φ≥240mm |
| （12） | 均匀沉积区域 | Φ≥200mm |
| （13） | 气路系统 | H2/CH4/N2/O2(可选CO2)（可用户定制） |
| （14） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （15） | 工作环境 | 温度15~40℃，相对湿度≤60%，无腐蚀性气体 |
| （16） | 系统供水 | 去离子水，进水水压0.45-0.6MPa，压降不低于0.35MPa |
适用于6英寸以上纳米晶及超细纳米晶金刚石、光学级CVD金刚石窗口、CVD单晶金刚石热沉片的制备
